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名师简介

顾豪爽老师

顾豪爽

所属大学: 湖北大学

所属院系: 化学化工学院

主授课程: 暂无内容

教学风格: 暂无顾豪爽的教学风格

个人简介

姓 名 顾豪爽 性 别 男 出生年月 1958.10. 最终学历 博士研究生;华中科技大学博士毕业。 职 称 教授 职 务 副校长 电 话 (027)88665568 学 位 博士 所在院系 湖北大学物理学与电子技术学院 通信地址 湖北省武汉市学院路11号湖北大学校长办公室430062 研究方向 微电子学与固体电子学 ※ 教学情况 1.近五年来讲授的主要课程: (1) 薄膜物理与技术 专业课 周学时 2, 3届共160人 (2) 材料化学 专业基础课 周学时 2, 1届共70人 (3) 物理科学前沿讲座 公共课 周学时 2, 1届共70人 2.承担的实践性教学: (1)指导本科毕业设计/论文:5届共计40余人; (2)指导硕士研究生毕业论文:5届共计20余人 (3)指导博士研究生:2届共计2余人 3.发表的教学研究论文: (1)大学物理课程跨学科教学研究与实践,物理通报,2005,7. 4.获得的教学表彰/奖励: (1) 2005年,获湖北省政府教学成果一等奖。 (2) 2005年,获湖北省政府教学成果三等奖。 ※ 学术研究 1.近3年来承担的学术研究课题 (1)掺杂Bi4Ti3O12铁电纳米线阵列的制备及其性能研究,国家自然科学基金,2006年 (2)铁电压电纳米线阵列复合材料的制备及性能研究。湖北省自然科学基金创新群体项目, 2005年 (3) AlN薄膜腔声谐振滤波器研制, 武汉市科技攻关计划,2006年 2.近5年发表的学术论文(第一署名,通信联系): (1) Haoshuang Gu, Yongming Hu, Jing You, et al., Characterization of single-crystalline PbTiO3 nanowires growth via hydrothermal method. Journal of Applied Physics 101 (2007) 024319. (2) Yongming Hu, Haoshuang Gu*, Zhenglong Hu, Hao Wang, Microstructure and Photoluminescence Properties of KTa0.77Nb0.23O3 nanoplates. Journal of Colloid Interface Science 310 (2007),292-296. (3) Yongming Hu, Haoshuang Gu*, Photoluminescence and Raman scattering studies on PbTiO3 nanowires fabricated by hydrothermal method at low temperature, Appl. Phys. Lett., 2006, 88:193120. (4) Haoshuang Gu, Kai Zhang, Fabrication and characteristics of the FBAR with highly c-axis oriented AlN films, Chinese Physics Letters, 2006, 23(11):3111-3114. (5) Haoshuang Gu, Kansong Chen, Yongming Hu, Structure and optical properties of 0.1BiFeO3-0.9SrBi2Nb2O9 thin films using a modified sol-gel technique. J. Sol-Gel Sci. Tech. 2006,37:27-30, (6) Haoshuang Gu, Wanqiang Cao,Effects of precursor solution pH value and substrate texture on orientation degree of sol-gel-derived bismuth titanate thin films. Phys. Stat. Solid. A 2003, 198:282, 申请专利: 1)“具有AlN晶化缓冲层的体声波谐振器的制造方法”,发明专利申请号:200610018254.1. 2)“一种钕掺杂钛酸铋纳米线阵列铁电存储材料及其合成方法”,发明专利申请号:200610018483.3. 3.获得的学术研究表彰/奖励: (1)钙钛矿结构铁电薄膜的取向生长和性能研究, 湖北省自然科学二等奖,2003年,(第一署名); (2)无机功能薄膜的溶胶凝胶法制备与性能研究,湖北省自然科学二等奖,2000年, (第二署名)。

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